- SiO2-Schicht
- сокр.
микроэл. слой SiO2, слой диоксида кремния
Универсальный немецко-русский словарь. Академик.ру. 2011.
SiO2-Schicht
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Sol-Gel-Schicht — Sol Gel Schichten bezeichnen alle über das Sol Gel Prozess hergestellten anorganischen oder hybridpolymeren Filmsysteme. Sol Gel Beschichtungen sind die wichtigste kommerzielle Anwendung des Sol Gel Verfahrens.[1] Inhaltsverzeichnis 1… … Deutsch Wikipedia
Thermische Oxidation von Silizium — Die thermische Oxidation von Silizium ist in der Halbleitertechnik ein Beschichtungsverfahren, bei dem auf einem einkristallinen Siliziumsubstrat (beispielsweise einem Silizium Wafer) eine dünne Schicht aus amorphen Siliziumdioxid aufgebracht… … Deutsch Wikipedia
LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… … Deutsch Wikipedia
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Reflektometrische Interferenzspektroskopie — Die reflektometrische Interferenzspektroskopie (RIfS) ist eine physikalische Methode, die auf der Interferenz von Weißlicht an dünnen Schichten beruht. Diese Methode wird in der Praxis dazu eingesetzt, um molekulare Wechselwirkungen zu… … Deutsch Wikipedia
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Glas: Der transparente Werkstoff — Gläser sind, wissenschaftlich betrachtet, gar keine Festkörper im engen Sinn des Wortes, da sie sich wie eine extrem zähe Flüssigkeit verhalten. Augenscheinlich wird dies beispielsweise an sehr alten Fensterscheiben, bei denen im Laufe der Zeit … Universal-Lexikon
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
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